एलआर बी स्टील प्लेट
नैनोमैकेनिकल गुणों के संदर्भ में उत्पाद विवरण आसंजन बल विश्लेषण: परमाणु बल माइक्रोस्कोपी (एएफएम) एएफएम टिप और एलआर/बी स्टील की सतह के बीच आसंजन बल को माप सकता है। कंपन तनाव - राहत उपचार रासायनिक संरचना, क्रिस्टल जैसे कारकों को बदल सकता है...
विवरण
उत्पाद विवरण
नैनोमैकेनिकल गुणों के संदर्भ में
आसंजन बल विश्लेषण:
परमाणु बल माइक्रोस्कोपी (एएफएम) एएफएम टिप और एलआर/बी स्टील की सतह के बीच आसंजन बल को माप सकता है। कंपन तनाव - राहत उपचार रासायनिक संरचना, क्रिस्टल संरचना और सामग्री की सतह की खुरदरापन जैसे कारकों को बदल सकता है। ये परिवर्तन सामग्री की सतह ऊर्जा को प्रभावित करेंगे और परिणामस्वरूप आसंजन बल को बदल देंगे। उदाहरण के लिए, उपचार के बाद सामग्री की सतह पर ऑक्साइड परत या सोखने वाले पदार्थों में परिवर्तन से आसंजन बल में परिवर्तन हो सकता है। यदि कंपन तनाव-राहत उपचार सामग्री की सतह पर परमाणु व्यवस्था को अधिक नियमित बनाता है और सतह की ऊर्जा को कम करता है, तो आसंजन बल कम हो सकता है। सूक्ष्म और नैनो उपकरणों में सामग्री के घर्षण और सोखने के व्यवहार को समझने के लिए आसंजन बल में ऐसे परिवर्तन महत्वपूर्ण हैं।
विद्युत गुणों के संदर्भ में
सतह चार्ज वितरण और चालकता:
एएफएम एलआर/बी स्टील की सतह पर चार्ज वितरण का पता लगा सकता है। कंपन तनाव - राहत उपचार से सामग्री के अंदर इलेक्ट्रॉनिक संरचना में परिवर्तन हो सकता है, जैसे कि क्रिस्टल दोषों की गति और पुनर्वितरण, और ये परिवर्तन सतह चार्ज वितरण में परिलक्षित होंगे। कुछ अनुप्रयोग परिदृश्यों के लिए जिनके लिए अच्छी विद्युत चालकता की आवश्यकता होती है, एएफएम के माध्यम से कंपन तनाव-राहत उपचार के बाद सतह चार्ज वितरण और गतिशीलता में परिवर्तन का विश्लेषण करके, सामग्री की चालकता में परिवर्तन का मूल्यांकन किया जा सकता है। उदाहरण के लिए, यदि कंपन तनाव-राहत उपचार सामग्री के अंदर प्रवाहकीय चैनलों को चिकना बनाता है और सतह चार्ज वितरण को अधिक समान बनाता है, तो सामग्री की विद्युत चालकता बढ़ सकती है।
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श्रेणी |
यांत्रिक संपत्ति |
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तन्यता ताकत (एमपीए) |
उपज शक्ति(एमपीए) |
2 इंच (50 मिमी) मिनट में % बढ़ाव |
प्रभावकारी परीक्षण तापमान(डिग्री) |
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| एलआर/बी |
400-520 |
235 |
22 |
20 |




सामग्री क्रिस्टलीयता के संदर्भ में
क्रिस्टलोग्राफिक अभिविन्यास और अनाज विकास:
एएफएम कुछ हद तक सामग्री की सतह पर अनाज के क्रिस्टलोग्राफिक अभिविन्यास का निरीक्षण कर सकता है। कंपन तनाव - राहत उपचार से अनाज के अंदर जाली की विकृति में कुछ हद तक राहत मिल सकती है या अनाज की वृद्धि की दिशा में बदलाव हो सकता है। लंबी अवधि में कंपन तनाव-राहत उपचार से पहले और बाद में सामग्री की सतह पर अनाज के क्रिस्टलोग्राफिक अभिविन्यास में परिवर्तनों को देखकर, यह समझना संभव है कि सामग्री की क्रिस्टलीकरण प्रक्रिया प्रभावित हुई है या नहीं। उदाहरण के लिए, यदि कंपन तनाव - राहत उपचार एक विशिष्ट दिशा में अनाज के विकास को बढ़ावा देता है या क्रिस्टलोग्राफिक अभिविन्यास को अधिक नियमित बनाता है, तो भौतिक और रासायनिक गुणों (जैसे ऑप्टिकल गुण और चुंबकीय गुण) में परिवर्तन का अध्ययन करने के लिए यह बहुत महत्वपूर्ण है। सामग्री का.
सामग्री रासायनिक गतिविधि के संदर्भ में
सतही रासायनिक प्रतिक्रिया गतिविधि:
सामग्री की सतह रासायनिक प्रतिक्रिया गतिविधि का अध्ययन करने के लिए एएफएम को अन्य रासायनिक विश्लेषण तकनीकों (जैसे रासायनिक बल माइक्रोस्कोपी मोड) के साथ जोड़ा जा सकता है। कंपन तनाव - राहत उपचार भौतिक सतह पर रासायनिक बंधन स्थिति और परमाणु गतिविधि को बदल सकता है। उदाहरण के लिए, उपचार के बाद सामग्री की सतह पर सक्रिय साइटों की संख्या बढ़ या घट सकती है, जो सामग्री और बाहरी वातावरण (जैसे संक्षारक मीडिया) के बीच रासायनिक प्रतिक्रियाओं को प्रभावित करेगी। यदि कंपन तनाव - राहत उपचार सामग्री की सतह पर परमाणु गतिविधि को कम कर देता है, तो संक्षारक वातावरण में सामग्री के संक्षारण प्रतिरोध को बढ़ाया जा सकता है, जिसका प्रदर्शन पर महत्वपूर्ण प्रभाव पड़ता है जैसे कि व्यावहारिक इंजीनियरिंग अनुप्रयोगों में सामग्री की सेवा जीवन।
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